Antistatische Tücher

Antistatische Tücher

Antistatische Reinraumtücher von SSESDW-P -145 D-LE sind für 100% Polyester kontinuierlicher Filamentgarne strukturiert und verwenden einen speziellen Produktionsprozess.
• Alle produzieren einen Prozess nach Cleanroom Class100
• Ultra niedrige Partikel und Fasererzeugung.
• Surfacs Resistances: 10 x 10 7 ~ 8 Ohm/M2
• hohe Absorption und Weichheit.
• Ultra niedrige Inoik und NVRs.
• Kompatibel mit IPA, Aceton und einem unterschiedlichen Lösungsmittel.


Anti-statische Reinraumtücher von SSESDW-P -145 D-l-LE verwenden die Reinigung der

Mikroelektronik, Halbleiter, Chip, Wafer, FestplattenECT hohe Präzisionsindys.

 

Produktschlüsseltechnologien

Beschreibungen

 

Anti-statische Reinraumtücher von SSESDW-P -145 D-LE sind für 100% Polyester kontinuierlicher Filamentgarne strukturiert und verwenden einen speziellen Produktionsprozess.

Surfacs Resistances: 10 x 107~8Ohm/m2,

Alle produzieren Prozess durch Cleanroom Class100,

Ultralow -Partikel und Ionen und NVR,

Hoher saugfähig und weich.

Merkmale

 

  • Polyester Antistata -Reinraumtücher bestehen aus 100% HI -Stärke Polyesterfaser (kontinuierliches Filament, Doppelstrick)
  • Ultra niedrige Partikel- und Fasererzeugung
  • Laserversiegelte Grenzen für maximale Faser- und Partikelretention
  • Frei von Silizium-, Amid- und Dop -Kontamination
  • Widersteht Abrieb, wenn sie mit rauen Oberflächen verwendet werden

 

 

Anwendungen

Anti-statische Reinraumtücher von SSSDW-P -145 D-LE werden verwendet, um den mikroelektronischen, Halbleiter, Chip, Wafer, Festplatten mit hoher Präzision in Industies zu reinigen.

Anwendungsbranche

Mikroelektronik

Halbleiter

Datenspeicherung

Reinraum Design/Aufbau

Einrichtungen Wartung

Druck/Grafik

Biologika

Pharmazeutisch

Medizinprodukt

Zusammengesetzte Phrmaties

Datenspeicherung

Labor

Luft- und Raumfahrt Animala

Industriell

USP< 797>USP<800>

Informationen bestellen

Code

Größe

Verpackung

SSESDW-P -145 D-LE44

4"x4"

400pcs/Bag 10 Bag/Hülle

SSESDW-P -145 D-Le66

6"x6"

100pcs/Bag 20 Bag/Hülle

SSESDW-P -145 d-le99

9"x9"

100pcs/Bag 10 Bag/Hülle

SSESDW-P -145 D-le1212

12"x12"

100pcs/Bag 10 Bag/Hülle

 

 

Referenz

 

 

Oberflächenwiderstand

SSESDW-P -145 d-le99

Doppelt gestrickt

 

Häufig gestellte Fragen

 

 

01. Antistatische Reinraumtücher von SSESDW-P -145 D-LE-Anwendungsmethode

Anti-statische Reinraumtücher von SSSDW-P -145 D-LE werden verwendet, um den mikroelektronischen, Halbleiter, Chip, Wafer, Festplatten mit hoher Präzision in Industies zu reinigen.

02. Antisatische Reinraumtücher von SSESDW-P -145 D-le-Absorptionsleistung

Sorptive Kapazität: 480 ml/m2, Sorptive Rate:<1 seconds.

03. Welche Soluktionen können die antistatischen Reinraumtücher von SSESDW-P -145 d-le-Compatibiliy können

Kompatibel mit IPA, Aceton und einem unterschiedlichen Lösungsmittel.

04.

Surfacs Resistances: 10 x 107~8Ohm/m2

 

 

 

 

Markenprofil

 
 

 

Seit seiner Gründung im Jahr 1988 erwarb die Smartet-Technologie ein tiefes Know-how, von saubersten und statischen dissipativen Lösungen über pharmazeutische Reinigung und Desinfektion bis hin zur Handhabung und Reinigung von Silion Wafer. Wir planen und realisieren Projekte aus einer Vielzahl technischer und spezialisierter Bereiche und finden praktikable technische Lösungen. Unser Team arbeitet den effizientesten Ansatz für Sie aus, immer im Hinblick auf Ihre individuellen Anforderungen und ermöglicht es Ihnen, sich auf Ihr Kerngeschäft ohne Ablenkungen zu konzentrieren.

Unsere vertikal integrierte Fertigungsanlage von 3 000 Quadratmeter in China unterhält Reinräume der Klasse 100 bis Klasse 10.000 mit einem 18 -Mohm -EDI -Wassersystem .Wealth von {{5} -Jahren Branchenerfahrung und -wissen in der Lieferkette von Reinraum und zugehörigen Produkten.

hohe Qualität

Fortgeschrittene Ausrüstung

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Über 35+ Jahre des Erfolgs

Bauen Sie auf jahrzehntelangen Erfahrung auf, bieten Sie nachhaltige Lösungen in Reinraum- und ESD -Kontrolle an

Professional & Effizienz

Unser bewährtes Wissen ermöglicht es Ihnen, das Kontaminationsrisiko zu verringern und Entwicklungszyklen zu reduzieren.

Innovation & Begeisterung

Wir müssen schnell innovieren, weil Sie es tun. Lösen Sie Ihre fortschrittlichsten technologischen Herausforderungen.

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